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連續回轉PECVD系統

簡(jiǎn)要描述:該款設備是全自動(dòng)Plasma增強CVD系統(PECVD),連續可控溫度以及Plasma強度等,配備真空系統,可以低壓條件下實(shí)現工藝,PECVD系統能使整個(gè)實(shí)驗腔體都處于輝光產(chǎn)生區,輝光相對均勻等效,很好的解決了傳統等離子工作不穩定狀態(tài),該設備爐管可360°旋轉,有助于粉料的燒結更均勻,可大角度傾斜,方便進(jìn)出料,傾斜角度在0-35°之間,所有物料經(jīng)過(guò)的管道都選用非金屬材質(zhì),

  • 產(chǎn)品型號:BTF-1200C-RP-PECVD
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2021-11-11
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:1242

產(chǎn)品分類(lèi)

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詳細介紹

品牌其他品牌產(chǎn)地類(lèi)別國產(chǎn)
應用領(lǐng)域綜合

技術(shù)參數

加熱系統Heating system

功率

4KW

電壓

AC220V  50/60Hz

zui高溫度

1200°C

使用溫度

1100°C

加熱長(cháng)度

200mm+200mm

恒溫長(cháng)度

250mm



控溫方式



模糊PID控制和自整定調節

智能化30段可編程控制

超溫和斷偶報警功能

操作界面為10 "液晶觸摸屏控制

控溫精度

+/- 1℃

爐管尺寸

Size:Φ60*420+Φ100*360+Φ60*420mm

尺寸:Φ60*420+Φ100*360+Φ60*420mm

Furnace tube rotation rate:0~60r/min

爐管轉速:0~60r/min

Furnace body inclination angle

0~35°(adjustable)

Plasma系統

本系統借助于輝光放電產(chǎn)生等離子體,輝光放電等離子體中,電子密度高,通過(guò)反應氣態(tài)放電,有效利用了非平衡等離子體的反應特征,從根本上改變了反應體系的能量供給方式。

T

進(jìn)料系統

送料系統速度連續可調,停止送料且爐體傾斜zui大時(shí),物料不會(huì )從送料系統外漏,送料系統方便拆卸,拆卸后可手動(dòng)加料,設備可正常運行。

T

出料系統

出料系統在爐體傾斜出料時(shí)可自動(dòng)出料。)


氣體控制系統

該控氣系統是可以控制兩種氣體按照不同流量進(jìn)行混合配比的,也可以獨立控制,質(zhì)量流量計安裝于密封的可移動(dòng)的機柜內,由超潔雙拋不銹鋼管與精密雙卡套接頭連接組成。



低真空系統

該系統配備真空機械泵,可以抽真空,可以讓設備在真空環(huán)境下進(jìn)行反應。



氣料分離系統

該系統可以讓設備在充氣體保護或者抽真空時(shí),實(shí)現氣體與物料的分離。



過(guò)濾系統

該系統可防止物料進(jìn)入真空泵,保證真空泵的正常運行。


爐管轉動(dòng)系統

爐管轉動(dòng)系統可以讓爐管360°勻速轉動(dòng),轉速在0-60r/min連續可調,且能在60r/min轉速下長(cháng)時(shí)間運行。  




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